当前在我国高科技技术领域，最让大家揪心的就是芯片技术的发展。面对美国步步紧逼的举措，时刻在提醒中国企业拥有独立自主的芯片技术的重要性。如此美国声称要彻底中断华为的芯片供应链，这不仅对华为造成了威胁，同时也让我国境内的相关企业感到了压迫。
庆幸的是无论是芯片研发，还是芯片生产，如果国产技术都在努力前进，也获得了一些成果，比如在光刻机领域，国产光刻机再次突破，将追赶荷兰的ASML，全力支持中芯国际以及华为。
众所周知光刻机是芯片生产领域的重要设备所在，其先进性直接决定了芯片的先进性如何，之前我国中芯国际与华为达成了合作，将为华为提供大批量的14纳米的麒麟系列芯片，这一联合看似解决了华为当前的危机，但是从长远来看，华为依旧不能松下一口气。
因此当前国际市场上使用的多为7纳米的芯片，而台积电作为美国苹果等企业的 芯片供应商，已然具备了5纳米的芯片技术，如果华为始终停留在14纳米，对其竞争力来说是一个大的威胁。
为此华为需要更先进的技术作为支持，中芯国际虽然在7纳米芯片生产领域技术成熟，但是在具体生产中，依旧缺乏7纳米的光刻机作为支持，影响了其生产效率。
而荷兰ASML作为国际高端光刻机的垄断企业，其与中国的合作多次受到美国干扰，未能如愿进行，中国对光刻机的需求更加强烈。
在此关头我国一个叫做上海微电子的企业带来了好消息，预计在2021年能够成功推出了28纳米的光刻机，虽然从性能上来说远不及ASML水平，但是作为一个成立于2002年的企业，能够拥有如此进展已经实属难得。
另外如今我国众多企业加盟光刻机领域，举全国之力定能助力国产光刻机的诞生，解决华为以及我国众多电子企业的燃眉之急。
